INTEL STRAINED SILICON PER GLI 0.09 MICRON

Aperto da re-voodoo, 15 Settembre 2002, 11:14:11

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Intel ha recentemente annunciato che grazie ad ingenti investimenti ha raggiunto stabilmente la tecnologia di produzione a 0.09 micron, contro gli attuali 0.13 micron dei processori Pentium 4 Northwood. Il primo prodotto che usufruirà del processo a 0.09 micron sarà il Pentium 4 con core "Prescot" in uscita nella seconda metà del 2003. La nuova cpu integrerà ben 1 MByte di cache full speed, bus a 666Mhz (166QDR), transistor da 50nm (i più piccoli mai utilizzati nella produzione a larga scala) e la tecnologia Strained Silicon.

La tecnologia "Strained Silicon" si basa su un processo di stiramento del cristallo di silicio che si verifica a contatto con particolari materiali a base di germanio. In figura è illustrato il processo che genera lo 'stiramento' del reticolo. Nell'immagine a sinistra osserviamo i due reticoli cristallini differenti mentre a destra possiamo ossercare che il materiale composito risultante evidenzia uno 'stiramento' del cristallo di silicio. Usando questo principio nel gate di un transistor si può aumentare di un fattore 35% la mobilità degli elettroni e quindi ridurre i consumi e aumentare la velocità di commutazione, senza dover abbassare ulteriormente il processo produttivo dei transitor




Scritto Da - re-voodoo il 06 Ottobre 2002alle ore  14:35:27
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